YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
作者:标准资料网 时间:2024-05-29 02:23:45 浏览:9656
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基本信息
| 标准名称： | 电子薄膜用高纯铜溅射靶材 |
| 发布部门： | 中华人民共和国工业和信息化部 |
| 发布日期： | 2012-11-07 |
| 实施日期： | 2013-03-01 |
| 首发日期： | |
| 作废日期： | |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 2013-03-01 |
适用范围
本标准规定了电子薄膜用高纯铜溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及合同（或订货单）内容。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯铜溅射靶材。
前言
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目录
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引用标准
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所属分类： 能源 核技术 能源 核技术综合 技术管理 能源和热传导工程 能源和热传导工程综合
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